钼钽靶材
简介：洛阳爱科麦钨钼科技股份有限公司生产的钼钽靶材主要为平面钼钽靶材。 爱科麦制造靶材的特点： 1.采用热等静压工艺，产品密度高，致密性好，晶粒均匀2.机械加工性能较好3.靶材相对密度大于99%，合金达到97%以上；晶粒度可达50um以下；薄膜热阻小于5%；与背板焊合率大于98%，靶材成膜后薄膜均匀性大于95%
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钼钽靶材
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洛阳爱科麦钨钼科技股份有限公司生产的钼钽靶材主要为平面钼钽靶材。
爱科麦制造靶材的特点
1.采用热等静压工艺，产品密度高，致密性好，晶粒均匀。
2.机械加工性能较好。
3.靶材相对密度大于99%，合金达到97%以上；晶粒度可达50um以下；薄膜热阻小于5%；与背板焊合率大于98%，靶材成膜后薄膜均匀性大于95%。
| 钼钽靶材参数 | ||
| Element元素 | MoTa | |
| Composition ratio | Mo | |
| Ta 6.0at% | ||
| Purity | >99.95% | |
| Dimension | 1130mm×1200mmX10mm | |
| Density密度 | 10.2--10.5g/cm3 | |
| Hardness 硬度 | HV5:205--240 | |
| Grain Size晶粒度 | 48μm | |
| Appearance表面粗糙度 | Ra≤0.4μm | |
| Impurity Content杂志含量 (powder粉) |
Fe | ≤80ppm |
| Ni | ≤20ppm | |
| Cu | ≤40ppm | |
| Al | ≤30ppm | |
| Si | ≤40ppm | |
| O | ≤800ppm | |
| C | ≤100ppm | |
注：所有规格均可通过机加工满足客户高精度的要求。
我公司的钼钽靶材主要应用于：
▲半导体行业。
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