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2017
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磁控溅射靶材
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溅射是一种先进的薄膜材料制备技术, 它利用离子源产生的离子, 在真空中加速聚集成高速离子流, 轰击固体表面, 离子和固体表面的原子发生动能交换, 使固体表面的原子离开靶材并沉积在基材表面, 从而形成纳米(或微米)薄膜。而被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料, 称为溅射靶材。钨钼溅射靶可在各类基材上形成薄膜, 这种溅射膜广泛用作电子部件和电子产品, 如目前广泛应用的TFT - LCD ( Thin Film Transitor- Liqu id C rysta l Displays, 薄膜半导体管-液晶显示器)、等离子显示屏、无机光发射二极管显示器、场发射显示器、薄膜太阳能电池、传感器、半导体装置以及具有可调谐功函数CMOS(互补金属氧化物半导体)的场效应晶体管栅极等 。
衡量靶材的质量主要因素有 纯度、致密度、晶粒尺寸及分布等。
为保证靶材质量，洛阳爱科麦采用以下技术，
(1)选择高纯钼粉作为原料;
(2)快速致密化的成形烧结技术, 以保证靶材的低孔隙率, 并控制晶粒度;
(3)制备过程严格控制杂质元素的引入;
(4)对部分高要求产品采用热等静压方法，此方法制得的钼铌靶材了95%～99%的较高密度细晶粒产品。
此外，爱科麦生产的靶材的能力还有以下优势：
1.产品大型化 生产出了单张尺寸规格为1130mm *1200mm *10mm适合于G4.5代TFT镀膜设备的钼合金靶材。
2.为适应市场提高靶材利用率需求，可制造长度超过3米的旋转靶材。
3.可生产10mm*200mm*L，适用于G8代线以上的纯钼靶材。
4.可用热等静压设备制造出高质量的金属及陶瓷类靶材。
